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ASML官宣全新半导体技术 5nm工艺产能有望暴涨60

类别:行业新闻 发布时间:2020-06-16 21:26

全球最大光刻机设备制造商ASML近日在其官网宣布,完成了第一代HMI多光束检测机HMI eScan1000的测试。

据悉,HMI eScan1000是一套基于HMI多光束技术的检测系统,用于验证5nm及更先进工艺生产出来的晶圆质量,其突破之处在于,能够同时产生、控制九道电子束,帮助产能提升600%,大大减少晶圆质量分析所用的时间。

业内普遍认为,工艺越先进,检测系统就越重要,后者的检测精度、吞吐量决定了生产的效率。ASML的HMI产品营销副总裁Gary Zhang表示,随着制程工艺不断提升,晶圆的制造愈加复杂,“杀手级”的缺陷也更加微小,无法通过现有的光学检测技术和设备一一锁定。

“我们的HMI多光束检测系统能够检测到这些微小的缺陷,同时解决了电子束通过量的限制,使其更适合于大批量制造环境。”Gary Zhang强调。

据介绍,HMI多光束系统包含一个复杂的光电子系统,能够产生和控制多个初级电子束,然后收集和处理反射回来的次级电子波束,同时将波束之间的串扰限制在2%以内,并提供一致的成像质量。

此外,该系统还具有提高系统总体吞吐量的高速阶段,以及实时处理来自多个波束的数据流的高速计算体系结构。除了物理缺陷外,还适用于电压对比检测。

官网文章透露,HMI eScan1000已于本周交付客户进行验证。将来,ASML还计划增加光束数量和光束分辨率,以满足客户未来对更先进工艺的要求。

据了解,光刻机是半导体制造领域的核心设备之一,而ASML是全球技术水平最高、影响力最大的光刻设备供应商,市场份额达到80%,同时也是全球最先进极紫外(EUV)光刻机的唯一供应商。

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